中心逻辑：工作景气量高加国产替代

　　近期，电子材料商场研讨公司TECHCET猜想，2021年，半导体制造所需的光刻胶商场规划将同比添加11，抵达19亿美元。由于全球晶圆代工产能缺少，产能扩展一直在进行中，随之光刻胶商场也将坚持安稳添加，依据TECHCET的数据，2021 2025年，全球光刻胶商场复合添加率约为5。74。

　　近年来，国内光刻胶要害技术不断打破，如上海新阳的干法ArF光刻胶现已进入产能制造阶段，南大光电的ArF光刻胶现已过客户认证，一同，国内半导体产能快速扩展和供应链自主可控的需求也为光刻胶工作带来了展开时机，2020年光刻胶龙头晶瑞股份光刻胶业务营收添加16。98，增速远超早年，为2018年以来最高，闪现工作景气量较高。

　　今天迁华就要盘点下未来5年最具潜力的3大光刻胶龙头，看好国产替代逻辑。

　　一、晶瑞股份中心逻辑：进口替代助力效果添加，国产光刻胶中心标的。

　　晶瑞股份是国内技术抢先的微电子化学品龙头，产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功用性材料、锂电池粘结剂等。

　　半导体材料国产替代进程加速，公司效果大幅进步。近年来遭到西方国家对我国实施技术关闭等国际竞争环境的影响，半导体国产替代已成为工作共同，2020年公司主导产品半导体级光刻胶及配套材料、超净高纯试剂等商场比例稳步添加，产能逐步开释，中心产品光刻胶及配套材料的出售取得前史最好效果，全年结束营收1。79亿元，同比添加16。98。

　　公司具有抵达国际先进水平的光刻胶出产线，高端KrF光刻胶结束中试，ArF高端光刻胶研发造业已发起。公司作为国内光刻胶领域的前驱，产品技术水平缓出售额处于国内抢先位置，承担并结束了国家严峻科技项目02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目，具有抵达国际先进水平的光刻胶出产线和国家02专项资助的一流光刻胶研发和点评实验室。



　　迁华认为，跟着国产半导体和面板产业链格局改动，配套国产材料供应体系有望加速展开，依据公司技术堆集、与头部客户深度合作关系以及产能规划化优势，未来有望持续获益。

　　二、上海新阳中心逻辑：半导体业务驱动21Q1运营效果高添加，购买光刻机布局高端光刻胶项目。

　　上海新阳为拓展业务规划及产品应用领域，出资树立控股子公司上海芯刻微材料技术有限责任公司进行193nm（ArF）干法光刻胶研发及产业化项目。

　　21Q1运营效果同比大幅添加。21Q1扣非净利润2200 2300万元，同比添加132 142，首要原因是集成电路制造用要害工艺化学材料业务出售同比添加60。



　　长期来看，公司战略布局集成电路制造用高端光刻胶项目。公司拟募资开发集成电路制造中ArF干法工艺运用的光刻胶和面向3DNAND台阶刻蚀的KrF厚膜光刻胶产品，力求于2023年前结束上述产品的产业化。公司估量KrF厚膜光刻胶2021年初步结束少量出售，2022年可结束量产，估量ArF（干式）光刻胶项目在2022年可结束少量出售，2023年初步量产，估量当年各项产品出售收入估计可达近2亿元。

　　购买光刻机用于高端光刻胶项目的研发。（1）上海新阳自立项开发193nmArF干法光刻胶的研发及产业化项目以来，安排购买了ASML 1400光刻机等中心设备，该光刻机已于2020年底前运抵国内。该光刻机设备于21年3月已进入合作方北方集成电路技术立异中心（北京）有限公司场所，后续将进行设备调试等相关作业。（2）上海新阳持有38股权的子公司芯刻微购得ASMLXT1900Gi型二手光刻机一台，该设备可用于研发分辨率达28nm的高端光刻胶。

　　迁华认为，上海新阳是我国集成电路制造和封测要害工艺材料龙头企业，已是中芯、长存、长鑫、长电、通富、华天等半导体制造封测企业中心供应商，有望充分获益工作展开。

　　三、南大光电中心逻辑：ArF光刻胶认证通过，国产材料持续推进。

　　南大光电首要从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品出产、研发和出售。公司树立光刻胶事业部，并成立了全资子公司“宁波南大光电材料有限公司”，全力推进“ArF光刻胶开发和产业化项目”的落地实施。

　　ArF光刻胶认证通过，国产替代龙头进阶在即。南大光电所推进的光刻胶自主克己，要害原材料相同遭到日美竞争对手的抑止，用于前道制程的酚醛树脂以及许多中心体材料有必要自主研发开发，抉择光刻功用的许多要害数据也只能靠自身不断探究与堆集，这是近乎于从无到有的应战。能够通过下贱客户的运用与认证，不仅仅是公司在光刻胶这一单一产品上的成功，更是从上游原材到中心制程的全面进化。

　　迁华认为，南大光电ArF光刻胶顺利通过客户验证，对企业展开来说，仅仅是一小步，但对半导体中心技术国产化来说，却是一大步，意义显着

　　目前国内高端193nmArF光刻胶产品还处于研发情况，与业界最为先进的光刻胶公司还存在着不小的间隔。我国半导体材料的全球产能占比相对于国内半导体材料的全球商场规划占比而言还存在着很大的进步空间。

　　等候国内光刻胶公司提早结束技术打破，结束高端半导体光刻胶的国产替代。